中银证券指出，在我国成熟制程、14nm FinFET、存储厂纷纷建产后，光刻胶作为集成电路光刻工艺的关键材料，未来的市场需求将步入高速增长。但目前国内晶圆厂的光刻胶大部分依赖于TOK、信越、DOW等国际品牌，国产化品牌北京科华、瑞红在I-line光刻胶和KrF光刻胶有所突破，南大光电、上海新阳在ArF光刻胶有布局。

　　光刻胶尽管市场规模小，但是光刻工艺中一种重要的半导体材料，自主可控离不开光刻胶国产化，强烈看好半导体设备与材料，光刻胶产业链关注晶瑞股份、南大光电、上海新阳、强力新材、飞凯材料。