科学仪器与半导体

半导体产业链

领域 设备

原子力显微镜、X射线衍射仪、电子衍射法ED（反射高能电子衍射RHEED、低能电子衍射LEED）、透射电子显
微镜、扫描电子显微镜、X射线能量色散谱EDS、显微激光拉曼光谱仪、角分辨光电子能谱ARPES、电学性能表
硅片 征、光致发光PL、电化学工作站、傅里叶变换红外光谱仪、拉曼光谱仪、离子色谱仪、电子探针分析仪、热重分
析仪、X射线光电子能谱、俄歇电子能谱、台阶仪、透射光谱（紫外-可见光-近红外分光光度计、双光束紫外可
见分光光度计）、荧光光谱、扫描探针显微镜、特斯拉仪

光刻胶 原子力显微镜、紫外光谱仪、红外光谱仪、核磁共振仪、扫描电镜、差示扫描量热仪、热重分析仪、元素分析仪、
液质联用LC-MS、纳米压痕仪、台阶仪

电子气体 气体转子流量计、马弗炉、气相色谱、微水测定仪；天平、烘箱、pH计、水浴锅

气相色谱、等离子质谱ICP-MS、离子交换色谱法；显微镜法、库尔特法、光阻挡法、激光光散射法；发射光谱
超净高纯试剂 法、原子吸收分光光度法、火焰发射光谱法、石墨炉原子吸收光谱法、等离子发射光谱法、电感耦合等离子质谱
法ICP-MS

溅射靶材 金相分析、扫描电镜、X射线衍射仪、显微硬度计、ICP-MS、辉光放电质谱法GDMS、四探针电阻仪、热重分析
仪、激光粒度仪、数字源表、台阶测试仪

扫描电镜、透射电镜、原子力显微镜、俄歇电子能谱仪、纳米力学测试仪、X射线光电子能谱仪、摩擦力显微镜、
抛光材料 扫描探针显微镜、粒度分析仪；扫描探针、X射线形貌仪、离子质谱仪、衍射分析技术、激光拉曼光谱仪、台阶
仪、表面测试仪；三维表面轮廓仪（白光干涉仪）、粗糙度仪、精密测厚仪、金相显微镜

引线框架 数字式微欧计、显微硬度计、电子拉伸机、金相显微镜、透射电镜、扫描电镜、能谱分析仪、万能试验机

封装基板 流变仪、热重分析仪、差示扫描量热仪、热机械分析仪、动态热机械分析仪、万能试验机；X射线衍射仪、扫描
电镜、四探针测试仪、自制膜层结合强度测试仪

键合丝 扫描电镜、X射线能谱仪EDS、X射线衍射仪、直流双臂电阻电桥、万能试验机、显微硬度计、金相显微镜、键合
点拉力试验所用检测设备

包封材料 同步热分析仪、X射线衍射仪、红外光谱仪、透射电镜、紫外-可见分光光度计、试验机、元素分析仪、扫描电镜、
能量散射光谱仪SEM-EDS、高温热机械分析仪、荧光光度计

芯片粘接材料 原子力显微镜、X射线光电子能谱、万能试验机、显微镜、扫描电镜、透射电镜、动态热机械分析仪、X射线衍射
仪、热重分析仪

科学仪器在半导体的应用

科学仪器在半导体产业中广泛应用，包括质谱、 全球主要科学仪器厂商（亿美元）
光谱、色谱、光学、电化学、物性等， USA

据不完全统计：

市值： 1323.27

收入： 255.42

‐ 质谱平台，15种仪器 净利润： 36.96

‐ 光谱平台，40种仪器 USA

‐ 色谱平台，5种仪器

‐ 光学平台，28种仪器 市值： 234.56

收入： 51.63

‐ 电化学平台，8种仪器 净利润： 10.71

‐ 其它平台，36种仪器 Japan

收入： 35.02

种类多、单价高、技术复杂 净利润： 2.77

自主可控的半导体科学仪器

科学仪器的应用

前端技术研究 工艺开发 过程检测 QA/QC 失效分析
走在工艺的前面 产业进步的关键

引领行业的发展 自主可控的标志

现状 关键的大型质谱和高端光谱全部依赖进口

绝大部分被美国企业控制（ Thermo Fisher USA, Agilent USA）

从跟随走向超越，科学仪器的先进性是关键要素

从最先进的半导体开始，走向国民经济的方方面面

杭州谱育科技发展有限公司

做中国的Thermo Fisher

谱育简介 丨 发展历程 丨 发展战略

核心能力 丨 业务领域 丨 社会责任

发展定位：致力于成为全球领先的科学仪器制造商，实现科学仪器的“中国梦”
主营业务：重大科学仪器的产品研制和产业化创新应用
聚焦领域：实验室、先进工业、环境保护、生命科学、安全等

国家高新技术企业，总部位于杭州

杭州青山湖基地
国内领先的科学仪器研发及生产基地

研发团队300+，硕博学历75%+

多年的重大科学仪器研发及产业化经验

专利申请100+项、已授权79项

对标公司ThermoFisher

半导体晶圆厂与分析工作流

工艺开发 过程监控 QA/QC 失效分析

洁净室空气 有机物（VOC, SVOC）, 酸，基质，阴离子，金属

核心技术最多，覆盖半导体应用最全 GCMS, IC, ICP-MS

200亿美元以上收入，仍保持高速增长 晶圆/基质 物理化学特性 污染物/环境控制和监控 物理化学特性

SEM, TEM, AES, FT-IR SEM, TEM, AES, FT-IR SEM, TEM, AES, FT-IR
每年25%以上的净利润增长 矩 气体 有机杂质

阵 TD GCMS, ICPMS, APIMS

中国市场增速最快 超纯水 阴离子，硅酸盐，有机物（VOC, SVOC），有机酸，TOC，阳离子，金属

IC,电导率, 滴定, ICP, ICP-MS

2019 2018 2017 添加剂 阳离子和氨类 氨类和有机酸
电镀液 LC-CAD IC 晶圆板IC

收入 255 243 209 化学品

试剂 NaCN中的金属CN 卤素

ICP-MS 晶圆板CIC
净利润 37.0 29.4 22.2 氰化物 酒精中的金属 有机物（VOC, SVOC）
IC-ED ICP-MS 晶圆板 GCMS

净利润增 25.8% 32.3% 酸中添加剂副产物 HF和有机溶剂中的阴离子

长率 IC-PAD IC

产品

发展历程 —— 十五年 专注重大科学仪器研发

2019年

入驻新基地

响应国家科技战略，布局重大科学仪器，

十五年创新研发积淀，迎来全新发展阶段！ 2019 - 至今

2015年

谱育科技成立

2019年

2015 - 2018年 国内首台 LC-MS/MS发布

高灵敏ICP-MS发布

深紫外、高分辨ICP-OES发布
2015年

2010 - 2014年 国内首台 ICP-MS发布

2006年 2016年 2020年

研发团队组建 首创发布 移动实验室3.0 首创发布 GC/LC-MS/MS

2010年 在线GC-MS发布 首创发布 全自动超级微波

在线气相色谱分析仪发布 2017年 首创发布 工厂自动化分析系统
2006 - 2009年 2010年 双通道走航质谱监测系统发布

国内首台 便携式GC-MS发布 2018年 国内首台 傅里叶红外遥测系统
2013年 首创发布 全自动实验室4.0 ……

质谱、色谱、光谱等 新一代全谱直读ICP-OES发布

核心分析技术平台研发 国内首台 全谱直读ICP-OES发布

发展历程 —— 持续科技创新，承担国家重大科技专项

科技部 国家重大科学仪器设备开发专项

国家重点研发计划

国家863计划

科技成果转化

发改委 国家科学仪器高技术产业化项目

2011年至今，研发团队累 企业技术中心创新能力建设

计承担国家和地方科技计划

项目30余项

环保部 国家水体污染控制与治理科技重大专项
打破国外垄断

突破技术瓶颈 住建部 国家水体污染控制与治理科技重大专项
持续创新研发

工信部 国家物联网发展专项

浙江省首台套

发展历程 —— 十年 承载国家重大科技专项研发

直接进样

三重四极杆串联质谱仪 土壤重金属分析仪

LC-MS/MS 项目名称：基于固体进样和

便携式GC-MS
项目名称：三重四极杆串 自激式全固态 质谱技术的土壤重金属现场 土壤VOCs分析仪
联质谱系统的研制及其在 挥发性有机物 ICP射频源 检测设备开发与产业化

痕量有机物分析中的应用 在线色谱分析仪 （2017YFF0108203）

（ 2011YQ060084 ） 项目名称：自激式全固态

挥发性有机物 项目名称：固定污染源 ICP 射频源研制及产业化 2017年

在线色谱质谱联用仪 废气VOCs在线/便携监 （2016YFF0100200） 2019年

2011年 GC-MS 测设备开发和应用 台式、便携、在线

（2013YQ060615） 近红外分析仪 项目名称：场地污染物现场
项目名称：大气及水体 快速筛查和检测技术与设备
挥发性有机物在线监测 2013年 项目名称：光栅扫描型近 项目名称：移动式水质监测

红外分析仪开发与应用 2016年 装备研发评估验证及标准化 （SQ2019YFC180103）
设备开发及应用示范

项目名称：基于质谱技术 （ 2012YQ06002 ） （2014YQ470377） （2017ZX07501003）

的全组分痕量重金属分析

仪器开发和应用示范

(YQ2011060100)

2012年 2014年

电感耦合等离子体 便携式LIBS

发射光谱仪 水质应急移动实验室 激光诱导击穿光谱仪
便携式非甲烷总烃 ICP-OES

/苯系物分析仪

电感耦合等离子体

质谱仪 ICP-MS

核心能力 —— 深度定制开发，创新应用场景及行业支撑

分析检测技术 进样前处理技术 创新应用场景 行业支撑
离子阱质谱技术 吸附热脱附进样 便携检测

质谱 四极杆技术 气体 吹扫捕集进样 现场应急 环保/食品新型
飞行时间质谱技术 顶空进样 现场分析实验室 污染因子监测
三重四级杆质谱技术 低温预浓缩进样

在线检测

原子发射光谱技术 流动注射进样 液体在线监测 医疗临床检测
光谱 激光诱导光谱技术 固相萃取 气体在线监测

近红外光谱技术 液体 加速溶剂萃取 固体样品在线检测

傅里叶红外光谱技术 氮吹浓缩/平行蒸发 生命科学研究
光谱成像技术 微波消解 移动检测

移动实验室

气相色谱技术 激光解离进样 走航监测 工业物联网
色谱 液相色谱技术 火花/电弧进样

离子色谱技术 固体 等离子体进样 实验室自动化

…… 辉光放电进样 称量 - 前处理 - 进样 安全应急
电热蒸发进样 - 分析 - 报告

…… …… ……

核心能力 —— 坚持自主研发，推出系列全球领先产品

国内首台 便携式GC-MS（2010） 国内首台 ICP-OES（2013） 国内首台 ICP-MS （2015） 国内首台 LC-MS （2019）

首创 移动实验室 3.0（2016） 首创 全自动实验室 4.0（2018） 首创 全自动超级微波（2020） 首创 工厂自动化分析系统（2020）
极具竞争力的重大科学仪器研发团队 科技部：国家科学技术进步奖二等奖

持续多年的高比例研发投入和产业积淀 生态环境部：环境保护科学技术奖二等奖

承担了 十余项国家重大科学仪器设备开发专项 浙江省科技厅：科学技术奖一等奖

积累了 二十余项新型技术平台 中国仪器仪表学会：科学技术奖一等奖

研制了 ICP-MS、LC-MS、GC-MS等十余款填补国内空白的 中国仪器仪表行业协会：自主创新金奖

重大科学仪器 中国分析测试协会：BCEIA金奖

…… ……

业务领域 —— 主要行业领域及应用方案
持续的高比例研发投入，积累了全面的技术平台，研制了一系列的重大科学仪器产品
广泛应用于 环保/食品新型污染因子监测、医疗临床检测、生命科学研究、工业物联网、安全应急等领域
科学仪器开发与客户需求深度融合，为多行业拓展仪器业务奠定了基础

行业领域 环境新型污染物监测 应急安全 食品药品 医疗检测 生命科学

应用方案 VOCs监测 饮用水安全 收粮储粮 新生儿筛查 细胞分析
…… 重金属监测 消防 食品安全检测 人体痕量重金属检测 药物研究
防化 药品检测 营养科学
茶叶品质检测

行业领域 科研院校 检验检疫 石油化工 材料科学 先进工业

应用方案 材料分析与表征 出入境防控 泄露监测 金属冶炼 核工业检测
…… 环境溯源研究 疫情防控 安全防控 材料开发 新能源检测
理化检验 废气排放 质量控制 半导体检测
过程工艺控制 标准品开发 过程分析自动化
谱育能为半导体行业提供什么

半导体行业应用概述
以光谱、色谱、质谱等分析技术和各种进样技术为核心
为半导体制造企业及其上游配套企业（材料、化学品等）的实验室分析和过程检测提供解决方案
半导体行业应用概述

工艺开发 工艺监控 QA/QC 失效分析
洁净室 VOCs/SVOC、酸气、无机元素、阴离子、碱

GC-MS、离子色谱、ICP、ICP-MS、LA-ICPMS、DAPS-ICPMS

晶圆/衬底 物性/化学成分 污染物/生产环境控制、环境监测

微波、FTIR、AES、UV/Vis、ICP、ICP-MS、LA- AES、FTIR、ICP-MS、GD-MS、SIMS、GC-MS、SEM、TEM、白光干涉、光散射
ICPMS、LIBS、SIMS、GD-MS、SEM、TEM、白光、

光散射

电子气 有机气体、杂质气体、颗粒物

GCMS、ICP-MS、在线ICPMS、大气压电离质谱、PTR-MS

超纯水 阴离子、硅酸盐、VOCs/SVOC、TOC、阳离子、无机元素

离子色谱、电导率、ICP、ICP-MS、全自动滴定、GC-MS、LC-MS/MS

电子级试剂 添加物

电子级化学品 IC、LC、GC-MS、LC-MS

化学品 ICP-MS、LC-MS/MS、IC、GC-MS、

电镀液 电子级试剂（酸/碱、有机溶剂）

ICP-MS、IC、在线ICP-MS、GC-MS

半导体工艺过程

行业应用 —— 半导体

技术平台 产品 应用领域 用途

硅片/靶材/抛光材料 测量材料纯度、表面痕迹污染物

ICP-MS 光刻胶 测量杂质成分

高纯试剂/化学品 试剂的杂质，质量检测

电子气体 颗粒物及其成分检测

无机质谱 硅片/靶材/抛光材料 测量材料纯度、杂质成分

GD-MS 晶圆 对样品逐层分析

失效分析 分析掺杂情况

LA-ICPMS 硅片/靶材/抛光材料 对材料进行直接测试，测量成分

晶圆 失效分析、样品逐层分析

DAPS-ICPMS 电子气体/生产环境 监测其中的金属颗粒物

PTR-TOF 电子气体/生产环境 高纯电子气体的杂质监测

LC-MS/MS 光刻胶/有机试剂 对光刻胶/有机试剂成分、组成进行定量测量

有机质谱 GC-MS 电子气体/生产环境 高纯电子气体的杂质监测

API-MS 电子气体 高纯电子气体的杂质监测

行业应用 —— 半导体

技术平台 产品 应用领域 用途

FTIR 硅片 硅片表面痕量污染物

光刻胶 检测光刻胶的分子结构和化学组成分析

硅片 硅片薄膜的表面、异质结界面性质、薄膜材料的组成分析和微区形貌分析

分子光谱 拉曼 抛光材料 可应用于表面薄膜检测和检定，也可对材料表面进行结构分析、成分鉴别、缺陷研究、
掺杂研究、均匀性研究等

荧光光谱 硅片 检测硅片缺陷性质、材料表面评价

紫外可见 硅片 检测硅片表面残留和薄膜材料成分和厚度

光刻胶 检测光刻胶的光学性质。获取粒子颗粒度、结构

原子吸收 高纯试剂/化学品 高纯试剂（电子级以下）中的金属杂质检测

原子光谱 ICP-OES 高纯试剂/化学品 高纯试剂（电子级以下）中的金属杂质检测

AES 抛光材料 金属材料成分分析

LIBS 硅片/抛光材料 材料的成分分析

IC 超净高纯试剂 高纯试剂中的阴阳离子检测

色谱 GC 高纯气体 半导体用高纯气体中的杂质气体成分在线监测；

生产环境 生产环境的有机气体检测

LC 超净高纯试剂 有机试剂的杂质检测

行业应用 —— 半导体

技术平台 设备 用途

高纯试剂在线监测系统 高纯试剂进厂原料检测、高纯试剂上线过程检测、研磨液/清洗液杂质检测

（ICP-MS法）

硅片中痕量金属污染在线监 硅片表面痕量金属污染物的表征

测系统

超纯水超痕量元素在线监测 超纯水进厂/上线杂质检测，废液杂质检测

系统

生产车间空气质量及有毒有 生产车间空气质量及有毒有害气体监测

害气体监测

在线监测设备 悬浮颗粒中无机元素的实时 洁净室环境悬浮颗粒物实时监测、半导体用高纯气体中杂质颗粒物监测

分析

半导体用高纯气体中的杂质气体成分在线监测：

其中包括氧、氮、氩、氢、CO2等高纯背景气体和100多种超净高纯特种气体。主
要有四大类：

（1）烷类：硅烷（SiH4）替代品四乙氧基硅烷、四甲基环四硅氧烷、二乙基硅烷；
高纯气体微量杂质在线监测 砷烷替代品特丁基砷和三乙基砷；磷烷替代品特丁基磷；硼烷；锗烷；甲烷；硒化
（CRDS、GC、GC-MS） 氢等。

（2）氯化物：三氯氢硅、二氯二氢硅、氯化氢、氯气、三氯化硼、POCl3等。

（3）氟化物：三氟化氮、三氟化硼、四氟化碳、六氟化硫、六氟化钨、三氟甲烷、
四氟甲烷、六氟乙烷、八氟丙烷、六氟乙烯等。

（4）其他：氧化亚氮、硫化氢、溴化氢、溴化硼、丙烯等

光学生产车间有机污染物分析
半导体生产厂家生产工艺对有机物的控制：
1）有机污染物导致半导体产品质量下降，良品率降低；
2）有机污染物影响生产车间光学设备，如曝光车间光学镜头使用寿命
3）有机物让人感到恶心头晕，严重影响身体健康
4）需求：现场质谱检测识别污染源，在线质谱监控对有机物预警预测

丙二醇甲醚醋酸酯、异丙醇、3-甲氧
基丙酸甲酯等有机溶剂显著偏高

京东方 CF产线 Array 产线 OC 产线 Coater 区域

高纯试剂在线监测系统

电子级集成电路试剂痕量元素在线监测系统
入围2019杭州市集成电路产业发展专项

硅片在线监测系统
TQ-ICP-MS

电子气体分析

电子气体工业色谱分析解决方案 方案特点：

1、自动化程度高：全自动分析，半导体专用分析软件

高纯气体分析，特种气体分析，稀有气体痕量杂质检测 2、高灵敏度：CRDS、HID PFPD FID TCD 专用检测器，
检测因子： 具有超高灵敏度和稳定性，是高纯气中低含量杂质分析最
（1）烷类（2）氟化物（3）氯化物，如： 理想的选择

3、多路流路切换系统：独到的中心切割、反吹系统技术，
硅烷、氨气、四氟化碳、六氟化硫、氯化氢、八氟环丁烷、甲烷、一氧化二氮、三氯化硼、溴化氢、 可以一次完成多种复杂成分的分析检测

一氧化碳、氖气、氪气等。

4、工作模式：实验室/在线多种模式

依据标准：

GB/T 16942-2009《电子工业用气体 氢》 GB/T 16943-2009《电子工业用气体 氦》

GB/T 16944-2009《电子工业用气体 氮》 GB/T 16945-2009《电子工业用气体 氩》

GB/T 14604-2009《电子工业用气体 氧》 GB/T 14600-2009《电子工业用气体 氧化氩氮》

GB/T 14601-2009《电子工业用气体 高纯氨》 GB/T 14602-93《电子工业用气体 氯化氢》

GB/T 14603-2009《电子工业用气体 三氟化硼》 GB/T 18994-2003《电子工业用气体 高纯氯》

GB/T 14851-93《电子工业用气体 磷化氢》 GB/T 17874-1999《电子工业用气体 三氯化硼》

GB/T 15909-2009《电子工业用气体 硅烷》 GB/T 21287-2007《电子工业用气体 三氟化氮》

全自动过程气相色谱分析仪 基于CRDS的气体污染监测系统

可扩展领域

前道检测
前道量检测根据测试目的可以细分为量测和检测。量测主要是对芯片的薄膜厚度、关键尺寸、套准精度等制成尺寸和膜应力、掺杂浓度等材料性质进行测量，以确保其符合参数设计要求；而检测主要用于识别并定位产品表面存在的杂质颗粒沾污、机械划伤、晶圆图案缺陷等问题。也有很多机构将中道检测合并到前道检测。
全球前道检测领域前三甲分别为科磊半导体（美国）、应用材料（美国）、日立（日本），根据 Gartner 数 据，三者市占率分别约为 52%、12%、11%。国内前道检测领域主要企业有上海睿励、上海精测、中科飞测等，整体规模尚较小。

优点 缺点

光学量测 速度快、分辨率高、不能直接成像，需要
非破坏性 借助其他技术测量
分辨率低（~1nm）
电子束量测 可直接成像测量 、速度慢、具有破坏
性

光学检测 速度快 只能确定位置，不能
知道缺陷形貌

电子束检测 可显示缺陷具体形 速度慢

貌

前道检测

检测技术 测试内容 主要设备 用途 设备代表性企业

椭偏仪 半导体材料膜厚、折射率、应力等 KLA，上海睿励，精测半导体

KLA、Applied Material、

白光干涉仪 表面粗糙度检测、形貌检测 Zygo、Hitachi、Zeiss、中图、
光学检测 聆光、中科飞测

激光干涉仪 无图案晶圆缺陷检测 KLA、Applied Material

量测：芯片 激光散射 激光扫描图案晶圆缺陷检测，如颗粒、划痕、 KLA，MueTec，Applied

尺寸、材料 滑移线和堆垛层错 Material、上海睿励

性质 X-Ray成像 无损的内部微结构检测（~0.x微米） Unicomp、韩国塞可

检测：识别 原子力显微镜 表面形貌测量 KLA

芯片杂质颗 半导体材料表面形貌检测、薄膜测量 KLA、Applied Material、

粒、机械画 扫描电镜 （~1nm） Tescan、FEI、汉民微测科技、
上、晶圆图 韩国赛可、聚束科技

案缺陷等 透射电镜 半导体材料内部微结构检测 Applied Material

电子量检测

SIMS 检测样品表面和本体的元素组成和分布，化 CAMECA、Tescan

合物半导体中的掺杂剂和杂质浓度

超声波检测 不透明材料的无损测试，检测空腔、空隙、

（C-sam） 气泡、内含物和分层，适用于晶圆检测、粘 PVA TePla

结检查和MEMS检测

前道检测设备对研发能力要求
专业覆盖度
研发人员的专业背景，覆盖了机械、材料、电气、电子、通讯、计算机、光学、物理、化学、生物、环境、流体、真空等多种学科。
设计数字化
具有完备的流体、动静力学、传热、光学等计算机辅助仿真，实现数字样机可视化
管理专业度
产品研发管理，需要专业的全生命周期管理系统，研发管理平台和预决算管理体系。
测试全面性
研发的软件与硬件测试，需要苛刻的环境测试、机械测试、EMC测试、可靠性测试、寿命测试、性能测试和功能测试。

前道检测设备对工艺能力的要求
机加工工艺能力
精密的注塑、压铸、切削、蚀刻、钣金、焊接、深孔、狭缝、抛光等工艺能力。
光学与镀膜工艺能力
多种光学器件的非球面与球面加工、镀膜、光栅、。
表面处理工艺能力
具有电镀、氧化、真空溅射镀、IMD、OMD、电泳、喷涂等表面处理技术。

前道检测设备对生产能力的要求
响应需求的生产交付能力
根据客户需求，实现定制化与批量化的响应能力、生产能力和交付能力。
分级洁净的装调检测能力
覆盖不同洁净等级的安装、调试与检测的生产，满足不同产品的要求。
全面质量管理能力
科学严密高效的质量体系，以提供满足用户需要的产品或服务的全部活动，包括产品
设计过程、制造过程、辅助过程和使用过程的质量管理。

前道量检测设备能力要求及匹配度

前道量测仪器能力要求 谱育当前能力

光学仿真

电子光学 光机电算完备的人力
精密加工

研发 真空处理 IPD研发能力

微弱信号采集 离子光学设计

高速信号处理 光学设计能力

图像处理算法 高速信号处理

干扰去除算法 微弱信号处理

光学加工 丰富的算法经验

精密加工 精密加工装调

制造 光学装调

光学/质谱生产

真空清洗 完整的生产能力

精密装调

超净生产

目标技术与产品

SIMS: CAMECA 激光扫描缺陷检测系统：KLA、AMAT、上海睿励
SEM 系统：KLA、HMI、AMAT 白光干涉仪系统：KLA、中科飞测

仪器：FEI（Thermo）、Tescan、Zeiss、Hitachi 仪器：Zygo、Hitachi、中图、聆光、

谢 谢

欢迎大家莅临考察

400-700-2658