网传公司自主研发的ArF(193nm)、F2(157nm),以及最先进的EUV(
【问】网传公司自主研发的ArF(193nm)、F2(157nm),以及最先进的EUV(<13.5nm)光刻胶产品近日已通过客户认证,可用于14~3nm光刻芯片生产,并成功取得
台积电、
中芯国际首批订单。是真的吗? 【答】晶瑞股份:尊敬的投资者您好!公司已正式启动ArF高端光刻胶研发工作,旨在研发满足90-28nm芯片制程的ArF(193nm)光刻胶,公司目前没有研发F2和EUV光刻胶的计划。感谢您对公司的关注与支持!¶¶2021-08-01 18:39:00 §
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